半導(dǎo)體學(xué)報雜志CSCD期刊

半導(dǎo)體學(xué)報雜志簡介

《半導(dǎo)體學(xué)報》是由中國電子學(xué)會主辦，中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所承辦的學(xué)術(shù)刊物，報道半導(dǎo)體物理學(xué)和半導(dǎo)體科學(xué)技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)最新的科研成果和技術(shù)進(jìn)展，被EI、CA、SA等收錄，在中國科學(xué)院、國家科委、中共中央宣傳部和國家新聞出版署的期刊評比中多次獲獎。

半導(dǎo)體學(xué)報雜志欄目設(shè)置

《半導(dǎo)體學(xué)報》主要欄目有：研究快報、研究論文、研究簡報、技術(shù)進(jìn)展等。

半導(dǎo)體學(xué)報雜志榮譽(yù)信息

• 全國優(yōu)秀科技期刊

半導(dǎo)體學(xué)報雜志訂閱方式

地址：北京市海淀區(qū)清華東路甲35號，郵編：100083。

半導(dǎo)體學(xué)報雜志社投稿須知

1.文章標(biāo)題：一般不超過20個漢字，必要時加副標(biāo)題，并譯成英文。

2.作者姓名、工作單位：題目下面均應(yīng)寫作者姓名，姓名下面寫單位名稱（一、二級單位）、所在城市（不是省會的城市前必須加省名）、郵編，不同單位的多位作者應(yīng)以序號分別列出上述信息。

3.提要：用第三人稱寫法，不以“本文”、“作者”等作主語，應(yīng)是一篇能客觀反映文章核心觀點(diǎn)和創(chuàng)新觀點(diǎn)的表意明確、實在的小短文，切忌寫成背景交代或“中心思想”，100－200字為宜。

4.關(guān)鍵詞：3－5個，以分號相隔，選擇與文章核心內(nèi)容相關(guān)的具有獨(dú)立性的實在詞。

5.正文標(biāo)題：內(nèi)容應(yīng)簡潔、明了，層次不宜過多，層次序號為一、（一）、1、（1），層次少時可依次選序號。

6.正文文字：一般不超過1萬字，正文用小4號宋體，通欄排版。

7.數(shù)字用法：執(zhí)行GB/T15835－1995《出版物上數(shù)字用法的規(guī)定》，凡公元紀(jì)年、年代、年、月、日、時刻、各種記數(shù)與計量等均采用阿拉伯?dāng)?shù)字；夏歷、清代及其以前紀(jì)年、星期幾、數(shù)字作為語素構(gòu)成的定型詞、詞組、慣用語、縮略語、臨近兩數(shù)字并列連用的概略語等用漢字?jǐn)?shù)字。

8.圖表：文中盡量少用圖表，必須使用時，應(yīng)簡潔、明了，少占篇幅，圖表均采用黑色線條，分別用阿拉伯?dāng)?shù)字順序編號，應(yīng)有簡明表題（表上）、圖題（圖下），表中數(shù)據(jù)應(yīng)注明資料來源。

9.注釋：注釋主要包括釋義性注釋和引文注釋，集中列于文末參考文獻(xiàn)之前。釋義性注釋是對論著正文中某一特定內(nèi)容的進(jìn)一步解釋或補(bǔ)充說明；引文注釋包括各種不宜列入文后參考文獻(xiàn)的引文和個別文后參考文獻(xiàn)的節(jié)略形式，其序號為①②③……。

10.參考文獻(xiàn)：參考文獻(xiàn)是作者撰寫論著時所引用的已公開發(fā)表的文獻(xiàn)書目，是對引文作者、作品、出處、版本等情況的說明，文中用序號標(biāo)出，詳細(xì)引文情況按順序排列文尾。以單字母方式標(biāo)識以下各種參考文獻(xiàn)類型：普通圖書[M]，會議論文[C]，報紙文章[N]，期刊文章[J]，學(xué)位論文[D]，報告[R]，標(biāo)準(zhǔn)[S]，專利〔P〕，匯編[G]，檔案[B]，古籍[O]，參考工具[K]，其他未說明文獻(xiàn)〔Z〕。格式與示例如下：

（1）圖書類格式：[序號]主要責(zé)任者.文獻(xiàn)題名:其他題名信息(任選)[文獻(xiàn)類型標(biāo)識].其他責(zé)任者(任選).出版地:出版者,出版年:起止頁碼.

（2）期刊文章格式：[序號]主要責(zé)任者.文獻(xiàn)題名[J].刊名(建議外文刊名后加ISSN號),年,卷(期):起止頁碼.

（3）報紙文章格式：[序號]主要責(zé)任者.文獻(xiàn)題名[N].報紙名,出版日期(版次).

（4）古籍格式：[序號]主要責(zé)任者.文獻(xiàn)題名[O].其他責(zé)任者(包括校、勘、注、批等).刊行年代(古歷紀(jì)年)及刊物機(jī)構(gòu)(版本).收藏機(jī)構(gòu).

（5）析出文獻(xiàn)格式：[序號]析出文獻(xiàn)主要責(zé)任者.析出文獻(xiàn)題名[文獻(xiàn)類型標(biāo)識]//原文獻(xiàn)主要責(zé)任者(任選).原文獻(xiàn)題名.出版地:出版者,出版年:析出文獻(xiàn)起止頁碼.

（6）電子文獻(xiàn)格式：主要責(zé)任者.文獻(xiàn)題名[文獻(xiàn)類型標(biāo)識/載體類型標(biāo)識].出處或可獲得地址，發(fā)表或更新日期/引用日期（任選）.

（7）文獻(xiàn)重復(fù)引用標(biāo)記：同一作者的同一文獻(xiàn)被多次引用時，在文后參考文獻(xiàn)中只出現(xiàn)一次,其中不注頁碼；而在正文中標(biāo)注首次引用的文獻(xiàn)序號，并在序號的角標(biāo)外著錄引文頁碼。

11．基金項目：獲得國家基金資助和省部級科研項目的文章請注明基金項目名稱及編號，按項目證明文字材料標(biāo)示清楚。

12．作者簡介：姓名（出生年-），性別，民族（漢族可省略），籍貫，現(xiàn)供職單位全稱及職稱、學(xué)位，研究方向。

13.來稿請注明作者電話、E-mail，收刊人及詳細(xì)地址、郵編。

14．其他：請勿一稿兩發(fā)，并請自留原稿，本刊概不退稿。

半導(dǎo)體學(xué)報雜志范例

一種采用斬波穩(wěn)零技術(shù)的16位,96kHz帶寬Σ-ΔAD轉(zhuǎn)換器

雙勢壘量子阱薄膜力電耦合特性實驗

氮摻雜對單壁碳納米管的非平衡電子輸運(yùn)特性的影響

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微區(qū)中MBE共度生長SiGe/Si異質(zhì)結(jié)構(gòu)的應(yīng)變和退火效應(yīng)

InGaN混溶隙的計算

襯底溫度和生長速率對MBE自組織生長InxGa1-xAs/GaAsQD的影響

GaAs(100)熱退火表面的變角XPS定量分析

Ge/Si(100)界面互擴(kuò)散的喇曼光譜

硅、鍺和氬離子注入富硅二氧化硅的電致發(fā)光

在硅襯底上用HFCVD法生長的納米SiC薄膜及其室溫光致發(fā)光

Si基熱氧化Si1-x-yGexCy薄膜的室溫光致發(fā)光特性

弛豫SiGe外延層的UHV/CVD生長

用SIPOS-SiO2復(fù)合層對4H-SiCn+pp+結(jié)構(gòu)鈍化的分析

中子輻照下的6H-SiCpn結(jié)電特性分析