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Electromagnetics

電磁學(xué)
國際簡稱:ELECTROMAGNETICS

Electromagnetics

SCIE

按雜志級別劃分: 中科院1區(qū) 中科院2區(qū) 中科院3區(qū) 中科院4區(qū)

  • 4區(qū) 中科院分區(qū)
  • Q4 JCR分區(qū)
  • 53 年發(fā)文量
  • 100.00% 研究類文章占比
  • 1.42% Gold OA文章占比
ISSN:0272-6343
創(chuàng)刊時間:1981
是否預(yù)警:否
E-ISSN:1532-527X
出版地區(qū):UNITED STATES
是否OA:未開放
出版語言:English
出版周期:Bimonthly
影響因子:0.6
出版商:Taylor and Francis Ltd.
審稿周期: 12周,或約稿
CiteScore:1.6
H-index:30
開源占比:0.0071
文章自引率:0.125

Electromagnetics雜志簡介

Electromagnetics是由Taylor and Francis Ltd.出版商主辦的工程技術(shù)領(lǐng)域的專業(yè)學(xué)術(shù)期刊,自1981年創(chuàng)刊以來,一直以高質(zhì)量的內(nèi)容贏得業(yè)界的尊重。該期刊擁有正式的刊號(ISSN:0272-6343,E-ISSN:1532-527X),出版周期Bimonthly,其出版地區(qū)設(shè)在UNITED STATES。該期刊的核心使命旨在推動工程技術(shù)專業(yè)及ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC學(xué)科界的教育研究與實踐經(jīng)驗的交流,發(fā)表同行有創(chuàng)見的學(xué)術(shù)論文,提倡學(xué)術(shù)爭鳴,激發(fā)學(xué)術(shù)創(chuàng)新,開展國際間學(xué)術(shù)交流,為工程技術(shù)領(lǐng)域的發(fā)展注入活力。

該期刊文章自引率0.125,開源內(nèi)容占比0.0071,出版撤稿占比0,OA被引用占比0,讀者群體主要包括工程技術(shù)的專業(yè)人員,研究生、本科生以及工程技術(shù)領(lǐng)域愛好者,這些讀者群體來自全球各地,具有廣泛的學(xué)術(shù)背景和興趣。Electromagnetics已被國際權(quán)威學(xué)術(shù)數(shù)據(jù)庫“ SCIE(Science Citation Index Expanded) ”收錄,方便全球范圍內(nèi)的學(xué)者和研究人員檢索和引用,有助于推動ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC領(lǐng)域的研究進展和創(chuàng)新發(fā)展。

CiteScore(2024年最新版)

  • CiteScore:1.6
  • SJR:0.207
  • SNIP:0.269
學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Physics and Astronomy 小類:Radiation Q3 37 / 58

37%

大類:Physics and Astronomy 小類:Electrical and Electronic Engineering Q3 561 / 797

29%

大類:Physics and Astronomy 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q4 215 / 284

24%

CiteScore: 這一創(chuàng)新指標(biāo)力求提供更為全面且精確的期刊評估,打破了過去僅依賴單一指標(biāo)如影響因子的局限。它通過綜合廣泛的引用數(shù)據(jù),跨越多個學(xué)科領(lǐng)域,從而確保了更高的透明度和開放性。作為Scopus中一系列期刊指標(biāo)的重要組成部分,包括SNIP(源文檔標(biāo)準(zhǔn)化影響)、SJR(SCImago雜志排名)、引用文檔計數(shù)以及引用百分比。Scopus整合以上指標(biāo),幫助研究者深入了解超過22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個指標(biāo)的詳細信息。

CiteScore分區(qū)值與影響因子值數(shù)據(jù)對比

Electromagnetics中科院分區(qū)表

中科院分區(qū) 2023年12月升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 4區(qū)
中科院分區(qū) 2022年12月升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 4區(qū)
中科院分區(qū) 2021年12月舊的升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 4區(qū)
中科院分區(qū) 2021年12月基礎(chǔ)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 4區(qū)
中科院分區(qū) 2021年12月升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 4區(qū)
中科院分區(qū) 2020年12月舊的升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 4區(qū)
中科院分區(qū)表歷年分布趨勢圖

WOS期刊JCR分區(qū)(2023-2024年最新版)

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q4 319 / 352

9.5%

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q4 307 / 354

13.42%

JCR(Journal Citation Reports)分區(qū),也被稱為JCR期刊分區(qū),是由湯森路透公司(現(xiàn)在屬于科睿唯安公司)制定的一種國際通用和公認的期刊分區(qū)標(biāo)準(zhǔn)。JCR分區(qū)基于SCI數(shù)據(jù)庫,按照期刊的影響因子進行排序,按照類似等分的方式將期刊劃分為四個區(qū):Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是,JCR分區(qū)的標(biāo)準(zhǔn)與中科院JCR期刊分區(qū)(又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù))存在不同之處。例如,兩者的分區(qū)數(shù)量不同,JCR分為四個區(qū),而中科院分區(qū)則分為176個學(xué)科,每個學(xué)科又按照影響因子高低分為四個區(qū)。此外,兩者的影響因子取值范圍也存在差異。

歷年發(fā)文數(shù)據(jù)

年份 年發(fā)文量
2014 48
2015 47
2016 45
2017 47
2018 47
2019 44
2020 53
2021 44
2022 44
2023 53

期刊互引關(guān)系

被他刊引用情況
期刊名稱 引用次數(shù)
IEEE T ANTENN PROPAG 32
INT J RF MICROW C E 20
J ELECTROMAGNET WAVE 16
ELECTROMAGNETICS 15
IEEE ACCESS 13
AEU-INT J ELECTRON C 11
INT J ANTENN PROPAG 9
ELECTRONICS-SWITZ 8
APPL COMPUT ELECTROM 7
APPL OPTICS 7
引用他刊情況
期刊名稱 引用次數(shù)
IEEE T ANTENN PROPAG 111
IEEE MICROW WIREL CO 71
IEEE T MICROW THEORY 68
IEEE ANTENN WIREL PR 48
MICROW OPT TECHN LET 44
ELECTRON LETT 39
IET MICROW ANTENNA P 17
ELECTROMAGNETICS 15
IEEE T MAGN 11
J ELECTROMAGNET WAVE 11
若用戶需要出版服務(wù),請聯(lián)系出版商:TAYLOR & FRANCIS INC, 325 CHESTNUT ST, SUITE 800, PHILADELPHIA, USA, PA, 19106。