微電子工程
國際簡稱：MICROELECTRON ENG
Microelectronic Engineering
SCIE
按雜志級別劃分： 中科院1區(qū) 中科院2區(qū) 中科院3區(qū) 中科院4區(qū)
- ISSN：0167-9317
- 創(chuàng)刊時間：1983
- 是否預(yù)警：否
- E-ISSN：1873-5568
- 出版地區(qū)：NETHERLANDS
- 是否OA：未開放
- 出版語言：English
- 出版周期：Monthly
- 影響因子：2.6
- 出版商：Elsevier
- 審稿周期： 約6.0個月
- CiteScore：5.3
- H-index：89
- 出版國人文章占比：0.14
- 開源占比：0.0341
- 文章自引率：0.0434...
Microelectronic Engineering雜志簡介
Microelectronic Engineering是由Elsevier出版商主辦的工程技術(shù)領(lǐng)域的專業(yè)學術(shù)期刊，自1983年創(chuàng)刊以來，一直以高質(zhì)量的內(nèi)容贏得業(yè)界的尊重。該期刊擁有正式的刊號（ISSN：0167-9317，E-ISSN：1873-5568），出版周期Monthly，其出版地區(qū)設(shè)在NETHERLANDS。該期刊的核心使命旨在推動工程技術(shù)專業(yè)及ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC學科界的教育研究與實踐經(jīng)驗的交流，發(fā)表同行有創(chuàng)見的學術(shù)論文，提倡學術(shù)爭鳴，激發(fā)學術(shù)創(chuàng)新，開展國際間學術(shù)交流，為工程技術(shù)領(lǐng)域的發(fā)展注入活力。
該期刊文章自引率0.0434...，開源內(nèi)容占比0.0341，出版撤稿占比0，OA被引用占比0.1274...，讀者群體主要包括工程技術(shù)的專業(yè)人員，研究生、本科生以及工程技術(shù)領(lǐng)域愛好者，這些讀者群體來自全球各地，具有廣泛的學術(shù)背景和興趣。Microelectronic Engineering已被國際權(quán)威學術(shù)數(shù)據(jù)庫“ SCIE（Science Citation Index Expanded） ”收錄，方便全球范圍內(nèi)的學者和研究人員檢索和引用，有助于推動ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC領(lǐng)域的研究進展和創(chuàng)新發(fā)展。
收錄信息
CiteScore（2024年最新版）
- CiteScore：5.3
- SJR：0.503
- SNIP：0.847
| 學科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 大類：Physics and Astronomy 小類：Condensed Matter Physics | Q2 | 127 / 434 |
70% |
| 大類：Physics and Astronomy 小類：Atomic and Molecular Physics, and Optics | Q2 | 68 / 224 |
69% |
| 大類：Physics and Astronomy 小類：Electrical and Electronic Engineering | Q2 | 242 / 797 |
69% |
| 大類：Physics and Astronomy 小類：Electronic, Optical and Magnetic Materials | Q2 | 87 / 284 |
69% |
| 大類：Physics and Astronomy 小類：Surfaces, Coatings and Films | Q2 | 42 / 132 |
68% |
CiteScore: 這一創(chuàng)新指標力求提供更為全面且精確的期刊評估，打破了過去僅依賴單一指標如影響因子的局限。它通過綜合廣泛的引用數(shù)據(jù)，跨越多個學科領(lǐng)域，從而確保了更高的透明度和開放性。作為Scopus中一系列期刊指標的重要組成部分，包括SNIP（源文檔標準化影響）、SJR（SCImago雜志排名）、引用文檔計數(shù)以及引用百分比。Scopus整合以上指標，幫助研究者深入了解超過22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個指標的詳細信息。
CiteScore分區(qū)值與影響因子值數(shù)據(jù)對比
Microelectronic Engineering中科院分區(qū)表
中科院分區(qū) 2023年12月升級版
| 大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū) 2022年12月升級版
| 大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) | OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 | 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū) 2021年12月舊的升級版
| 大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) | OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 | 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū) 2021年12月基礎(chǔ)版
| 大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū) 2021年12月升級版
| 大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) | OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 | 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū) 2020年12月舊的升級版
| 大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)表歷年分布趨勢圖
WOS期刊JCR分區(qū)（2023-2024年最新版）
| 按JIF指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q2 | 157 / 352 |
55.5% |
| 學科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q3 | 94 / 140 |
33.2% |
| 學科：OPTICS | SCIE | Q2 | 45 / 119 |
62.6% |
| 學科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 81 / 179 |
55% |
| 按JCI指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 179 / 354 |
49.58% |
| 學科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q3 | 74 / 140 |
47.5% |
| 學科：OPTICS | SCIE | Q3 | 64 / 120 |
47.08% |
| 學科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 88 / 179 |
51.12% |
JCR（Journal Citation Reports）分區(qū)，也被稱為JCR期刊分區(qū)，是由湯森路透公司（現(xiàn)在屬于科睿唯安公司）制定的一種國際通用和公認的期刊分區(qū)標準。JCR分區(qū)基于SCI數(shù)據(jù)庫，按照期刊的影響因子進行排序，按照類似等分的方式將期刊劃分為四個區(qū)：Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是，JCR分區(qū)的標準與中科院JCR期刊分區(qū)（又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù)）存在不同之處。例如，兩者的分區(qū)數(shù)量不同，JCR分為四個區(qū)，而中科院分區(qū)則分為176個學科，每個學科又按照影響因子高低分為四個區(qū)。此外，兩者的影響因子取值范圍也存在差異。
歷年發(fā)文數(shù)據(jù)
| 年份 | 年發(fā)文量 |
| 2014 | 410 |
| 2015 | 423 |
| 2016 | 334 |
| 2017 | 284 |
| 2018 | 225 |
| 2019 | 234 |
| 2020 | 165 |
| 2021 | 127 |
| 2022 | 118 |
| 2023 | 100 |
期刊互引關(guān)系
| 被他刊引用情況 | |
| 期刊名稱 | 引用次數(shù) |
| MICROELECTRON ENG | 365 |
| ECS J SOLID STATE SC | 204 |
| MICROMACHINES-BASEL | 153 |
| JPN J APPL PHYS | 148 |
| MATER RES EXPRESS | 130 |
| APPL SURF SCI | 127 |
| J MATER SCI-MATER EL | 127 |
| ACS APPL MATER INTER | 114 |
| MATERIALS | 94 |
| IEEE T ELECTRON DEV | 93 |
| 引用他刊情況 | |
| 期刊名稱 | 引用次數(shù) |
| MICROELECTRON ENG | 365 |
| APPL PHYS LETT | 348 |
| J APPL PHYS | 170 |
| IEEE T ELECTRON DEV | 165 |
| LAB CHIP | 157 |
| IEEE ELECTR DEVICE L | 115 |
| SCI REP-UK | 106 |
| OPT EXPRESS | 103 |
| ADV MATER | 96 |
| J ELECTROCHEM SOC | 95 |
相關(guān)期刊
-
Journal Of Control And Decision
控制與決策
中科院分區(qū)：4區(qū)
-
Journal Of Enhanced Heat Transfer
強化傳熱雜志
中科院分區(qū)：4區(qū)
-
Journal Of Imaging Informatics In Medicine
醫(yī)學影像信息學雜志
中科院分區(qū)：2區(qū)
-
Chinese Space Science And Technology
中國空間科學技術(shù)
中科院分區(qū)：4區(qū)
-
International Journal Of Engine Research
國際發(fā)動機研究雜志
中科院分區(qū)：4區(qū)