技術(shù)物理快報
國際簡稱:TECH PHYS LETT+
Technical Physics Letters是由Pleiades Publishing出版商主辦的物理與天體物理領(lǐng)域的專業(yè)學(xué)術(shù)期刊,自1997年創(chuàng)刊以來,一直以高質(zhì)量的內(nèi)容贏得業(yè)界的尊重。該期刊擁有正式的刊號(ISSN:1063-7850,E-ISSN:1090-6533),出版周期Monthly,其出版地區(qū)設(shè)在RUSSIA。該期刊的核心使命旨在推動物理與天體物理專業(yè)及PHYSICS, APPLIED學(xué)科界的教育研究與實踐經(jīng)驗的交流,發(fā)表同行有創(chuàng)見的學(xué)術(shù)論文,提倡學(xué)術(shù)爭鳴,激發(fā)學(xué)術(shù)創(chuàng)新,開展國際間學(xué)術(shù)交流,為物理與天體物理領(lǐng)域的發(fā)展注入活力。
該期刊文章自引率0,開源內(nèi)容占比0,出版撤稿占比,OA被引用占比0,讀者群體主要包括物理與天體物理的專業(yè)人員,研究生、本科生以及物理與天體物理領(lǐng)域愛好者,這些讀者群體來自全球各地,具有廣泛的學(xué)術(shù)背景和興趣。Technical Physics Letters已被國際權(quán)威學(xué)術(shù)數(shù)據(jù)庫“ SCIE(Science Citation Index Expanded) ”收錄,方便全球范圍內(nèi)的學(xué)者和研究人員檢索和引用,有助于推動PHYSICS, APPLIED領(lǐng)域的研究進展和創(chuàng)新發(fā)展。
學(xué)科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
大類:Physics and Astronomy 小類:Physics and Astronomy (miscellaneous) | Q3 | 52 / 81 |
36% |
CiteScore: 這一創(chuàng)新指標(biāo)力求提供更為全面且精確的期刊評估,打破了過去僅依賴單一指標(biāo)如影響因子的局限。它通過綜合廣泛的引用數(shù)據(jù),跨越多個學(xué)科領(lǐng)域,從而確保了更高的透明度和開放性。作為Scopus中一系列期刊指標(biāo)的重要組成部分,包括SNIP(源文檔標(biāo)準(zhǔn)化影響)、SJR(SCImago雜志排名)、引用文檔計數(shù)以及引用百分比。Scopus整合以上指標(biāo),幫助研究者深入了解超過22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個指標(biāo)的詳細信息。
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 4區(qū) | PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 4區(qū) | 否 | 否 |
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 4區(qū) | PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 4區(qū) | 否 | 否 |
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 4區(qū) | PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 4區(qū) | 否 | 否 |
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理 | 4區(qū) | PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 4區(qū) | 否 | 否 |
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 4區(qū) | PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 4區(qū) | 否 | 否 |
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 4區(qū) | PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 4區(qū) | 否 | 否 |
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學(xué)科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 165 / 179 |
8.1% |
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學(xué)科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 172 / 179 |
4.19% |
JCR(Journal Citation Reports)分區(qū),也被稱為JCR期刊分區(qū),是由湯森路透公司(現(xiàn)在屬于科睿唯安公司)制定的一種國際通用和公認的期刊分區(qū)標(biāo)準(zhǔn)。JCR分區(qū)基于SCI數(shù)據(jù)庫,按照期刊的影響因子進行排序,按照類似等分的方式將期刊劃分為四個區(qū):Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是,JCR分區(qū)的標(biāo)準(zhǔn)與中科院JCR期刊分區(qū)(又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù))存在不同之處。例如,兩者的分區(qū)數(shù)量不同,JCR分為四個區(qū),而中科院分區(qū)則分為176個學(xué)科,每個學(xué)科又按照影響因子高低分為四個區(qū)。此外,兩者的影響因子取值范圍也存在差異。
年份 | 年發(fā)文量 |
2014 | 322 |
2015 | 338 |
2016 | 312 |
2017 | 322 |
2018 | 348 |
2019 | 342 |
2020 | 328 |
2021 | 203 |
2022 | 62 |
2023 | 162 |
被他刊引用情況 | |
期刊名稱 | 引用次數(shù) |
TECH PHYS LETT+ | 276 |
TECH PHYS+ | 152 |
SEMICONDUCTORS+ | 81 |
PHYS SOLID STATE+ | 65 |
PLASMA PHYS REP+ | 48 |
IEEE T PLASMA SCI | 46 |
J COMMUN TECHNOL EL+ | 40 |
PHYS PLASMAS | 38 |
J APPL PHYS | 34 |
RUSS PHYS J+ | 34 |
引用他刊情況 | |
期刊名稱 | 引用次數(shù) |
TECH PHYS LETT+ | 276 |
TECH PHYS+ | 115 |
APPL PHYS LETT | 110 |
PHYS SOLID STATE+ | 90 |
J APPL PHYS | 88 |
SEMICONDUCTORS+ | 87 |
PHYS REV B | 70 |
PHYS REV LETT | 52 |
PHYS-USP+ | 45 |
J PHYS D APPL PHYS | 33 |
輻射探測技術(shù)與方法
中科院分區(qū):4區(qū)
激光與光電子學(xué)進展
中科院分區(qū):4區(qū)
Chinese Journal Of Lasers-zhongguo Jiguang
中科院分區(qū):4區(qū)
天體動力學(xué)
中科院分區(qū):1區(qū)
中國科學(xué):物理學(xué) 力學(xué) 天文學(xué)
中科院分區(qū):4區(qū)