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Ieee Magnetics Letters

IEEE Magnetics Letters
國際簡稱：IEEE MAGN LETT

Ieee Magnetics Letters

SCIE

按雜志級別劃分： 中科院1區(qū) 中科院2區(qū) 中科院3區(qū) 中科院4區(qū)

  • 4區(qū) 中科院分區(qū)
  • Q4 JCR分區(qū)
  • 33 年發(fā)文量
  • 100.00% 研究類文章占比
  • 18.31% Gold OA文章占比
ISSN：1949-307X
創(chuàng)刊時間：2010
是否預(yù)警：否
E-ISSN：1949-3088
出版地區(qū)：UNITED STATES
是否OA：未開放
出版語言：English
出版周期：1 issue/year
影響因子：1.1
出版商：Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
審稿周期：
CiteScore：2.4
H-index：20
出版國人文章占比：0.12
開源占比：0.2229

Ieee Magnetics Letters雜志簡介

Ieee Magnetics Letters是由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商主辦的物理與天體物理領(lǐng)域的專業(yè)學(xué)術(shù)期刊，自2010年創(chuàng)刊以來，一直以高質(zhì)量的內(nèi)容贏得業(yè)界的尊重。該期刊擁有正式的刊號（ISSN：1949-307X，E-ISSN：1949-3088），出版周期1 issue/year，其出版地區(qū)設(shè)在UNITED STATES。該期刊的核心使命旨在推動物理與天體物理專業(yè)及ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC學(xué)科界的教育研究與實踐經(jīng)驗的交流，發(fā)表同行有創(chuàng)見的學(xué)術(shù)論文，提倡學(xué)術(shù)爭鳴，激發(fā)學(xué)術(shù)創(chuàng)新，開展國際間學(xué)術(shù)交流，為物理與天體物理領(lǐng)域的發(fā)展注入活力。

該期刊文章自引率0，開源內(nèi)容占比0.2229，出版撤稿占比0，OA被引用占比0.0183...，讀者群體主要包括物理與天體物理的專業(yè)人員，研究生、本科生以及物理與天體物理領(lǐng)域愛好者，這些讀者群體來自全球各地，具有廣泛的學(xué)術(shù)背景和興趣。Ieee Magnetics Letters已被國際權(quán)威學(xué)術(shù)數(shù)據(jù)庫“ SCIE（Science Citation Index Expanded） ”收錄，方便全球范圍內(nèi)的學(xué)者和研究人員檢索和引用，有助于推動ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC領(lǐng)域的研究進展和創(chuàng)新發(fā)展。

CiteScore（2024年最新版）

  • CiteScore：2.4
  • SJR：0.314
  • SNIP：0.505
學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類：Materials Science 小類：Electronic, Optical and Magnetic Materials Q3 189 / 284

33%

CiteScore: 這一創(chuàng)新指標(biāo)力求提供更為全面且精確的期刊評估，打破了過去僅依賴單一指標(biāo)如影響因子的局限。它通過綜合廣泛的引用數(shù)據(jù)，跨越多個學(xué)科領(lǐng)域，從而確保了更高的透明度和開放性。作為Scopus中一系列期刊指標(biāo)的重要組成部分，包括SNIP（源文檔標(biāo)準(zhǔn)化影響）、SJR（SCImago雜志排名）、引用文檔計數(shù)以及引用百分比。Scopus整合以上指標(biāo)，幫助研究者深入了解超過22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個指標(biāo)的詳細(xì)信息。

CiteScore分區(qū)值與影響因子值數(shù)據(jù)對比

Ieee Magnetics Letters中科院分區(qū)表

中科院分區(qū) 2023年12月升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2022年12月升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2021年12月舊的升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2021年12月基礎(chǔ)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2021年12月升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2020年12月舊的升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 否 否
中科院分區(qū)表歷年分布趨勢圖

WOS期刊JCR分區(qū)（2023-2024年最新版）

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q4 278 / 352

21.2%
學(xué)科：PHYSICS, APPLIED SCIE Q4 152 / 179

15.4%
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q4 284 / 354

19.92%
學(xué)科：PHYSICS, APPLIED SCIE Q4 148 / 179

17.6%

JCR（Journal Citation Reports）分區(qū)，也被稱為JCR期刊分區(qū)，是由湯森路透公司（現(xiàn)在屬于科睿唯安公司）制定的一種國際通用和公認(rèn)的期刊分區(qū)標(biāo)準(zhǔn)。JCR分區(qū)基于SCI數(shù)據(jù)庫，按照期刊的影響因子進行排序，按照類似等分的方式將期刊劃分為四個區(qū)：Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是，JCR分區(qū)的標(biāo)準(zhǔn)與中科院JCR期刊分區(qū)（又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù)）存在不同之處。例如，兩者的分區(qū)數(shù)量不同，JCR分為四個區(qū)，而中科院分區(qū)則分為176個學(xué)科，每個學(xué)科又按照影響因子高低分為四個區(qū)。此外，兩者的影響因子取值范圍也存在差異。

歷年發(fā)文數(shù)據(jù)

年份 年發(fā)文量
2014 26
2015 49
2016 67
2017 88
2018 72
2019 92
2020 66
2021 48
2022 61
2023 33

期刊互引關(guān)系

被他刊引用情況
期刊名稱 引用次數(shù)
J MAGN MAGN MATER 61
IEEE T MAGN 47
IEEE MAGN LETT 42
PHYS REV B 38
APPL PHYS LETT 35
PHYS REV APPL 22
J APPL PHYS 16
AIP ADV 15
SCI REP-UK 14
J PHYS D APPL PHYS 12
引用他刊情況
期刊名稱 引用次數(shù)
IEEE T MAGN 149
PHYS REV B 135
J APPL PHYS 114
APPL PHYS LETT 109
J MAGN MAGN MATER 87
PHYS REV LETT 75
IEEE MAGN LETT 42
SCI REP-UK 34
NATURE 28
J ALLOY COMPD 26
若用戶需要出版服務(wù)，請聯(lián)系出版商：445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。

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